テクニカム

テスト機Wet&Dry成膜装置

適用基材

材質各種高分子フィルム
厚み20~200μm
働幅300mm(ロール幅350mm)
巻径最大φ250
長さ最大500m(厚み:50μmの場合)

スペック/仕様

機械速度0.1~5.0m/min(正転&逆転可)
張力20~120N
薄膜形成法Wet:キャピラリーコーター
Dry:デュアルカソード(2台)
前処理方法
(オプション)
平行平板低温プラズマ放電
到達真空度10-4Pa台(基材未装着)
メインポンプターボ分子ポンプ、クライオコイル
真空計キャンパシタンスマノメーター、等
ガスアルゴン、酸素、窒素
モニタープラズマモニター
冷却加熱ユニットWet:常温~120℃/加熱ロール
Dry:常温(水冷)/キャンロール
写真:テスト機Wet&Dry成膜装置

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