製品・サービス情報

真空成膜装置

スパッタ・EB蒸着装置(ロール幅:350mm)

特徴

走行方法水平型
成膜方式スパッタ,EB蒸着
基材フィルム
用途電子部品材料、光学膜

スペック/仕様

ロール幅350mm
機械速度0.1~10m/min
蒸発源数スパッタ:2台、EB:1台
設置エリアL6m×W5m×H3m
総重量5.5Ton
写真:スパッタ・EB蒸着装置(ロール幅:350mm)

PAGE TOP