製品・サービス情報

真空成膜装置

スパッタリング装置(ロール幅:350mm)

特徴

走行方法水平型
成膜方式スパッタ
基材フィルム
用途電子部品材料、光学膜

スペック/仕様

ロール幅350mm
機械速度0.1~5m/min
スパッタ源数3台
設置エリアL6m×W5m×H3m
総重量5.5Ton
写真:スパッタリング装置(ロール幅:350mm)

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