製品・サービス情報

真空成膜装置

スパッタリング装置(ロール幅:1300mm)

特徴

走行方法水平型
成膜方式スパッタ
基材フィルム
用途電子部品材料、光学膜

スペック/仕様

ロール幅 1300mm
機械速度0.1~10m/min
スパッタ源数4台
設置エリアL8.7m×W13m×H4.4m
総重量120Ton
写真:スパッタリング装置(ロール幅:1300mm)

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