製品・サービス情報

真空成膜装置

四元スパッタ装置(基板サイズ:φ2")

特徴

走行方法枚葉
成膜方式スパッタ
基材金属、無機材料
用途研究開発

スペック/仕様

基板サイズφ2"
基板回転10~80rpm
スパッタ源数4台
設置エリアL3m×W4m×H3m
総重量 -

写真:四元スパッタ装置(基板サイズ:φ2")

写真:放電中写真

放電中写真

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